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印制电路板PCB废水处理方法

印制电路板(PCB)废水处理方法

1.脱模显影废液。脱模显影废液主要为显影、湿膜显影工序产生的含油大量油墨的高浓度COD废水。有两种处理方法:一种为酸析法,利用分流出来的废酸液掺混进行搅拌,在酸性条件下(pH2.5~3.0),大多有机污染物可以析出:另一种催化法,将反应池中的废水pH值调至2.5,向池中分别投加FeSO4催化剂、H2O2强氧化剂,反应一定时间后,消化分解废液中的有机物,清液自动流入有机废水调节池进行后续处理。

2.含氰废水。此类废水主要来自沉金工序的清洗过程。废水主要含有COD及重金属与氰形成的络合物(Cu2+、Au2+、CN-)等污染物。此类废水必须进行破氰处理,可采用碱性氯化法,在碱性条件下,分批投入NaClO氧化剂,使络合物中的氰离子释放出来,经过两级反应,使CN-离子生成稳定无毒的CO2和N2,从而达到去除CN-的目的。主要反应式如下:

CN-+ClO-+H2O=CNCl↑+2OH-

CNCl+2OH-=CNO-+Cl-+H2O

2CNO-+3ClO-+H2O=2CO2↑+N2↑+3Cl-+2OH-

式①②为一级氧化反应,式③为二级氧化反应。式①产物氯化氢CNCl为易挥发的有毒物质,且在酸性条件下不稳定。式②反应需控制pH值为11.0~12.0,ORP=350mV,反应时间一般在15min内。式③反应需控制pH值为7.0~7.5,ORP=650mV,反应时间为30min。

3.在碱性条件下采用Na2S沉淀工艺。比较CuS、Cu(OH)2的溶度积,lgKsp(CuS)=35.2,lgKsp(Cu(OH)2)=19.66。可见金属硫化物的稳定常数大,易于沉淀,除铜效率高,且适用的值范围大(pH值为9.5~11.0)。由于金属硫化物在酸性条件下不稳定,容易产生有毒气体H2S,因此反应不能在酸性条件下进行。含氰废水处理后排入综合池。

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